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成都电镀工艺
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产品摘要
成都电镀工艺|成都电镀加工|成都电镀铜
焦磷酸盐镀铜工艺编辑
焦磷酸盐镀铜液的成分较简单,溶液稳定,电流效率较高,分散能力和覆盖能力好,镀层结晶细致,并能获得较厚的镀层,
焦磷酸盐镀铜工艺编辑
焦磷酸盐镀铜液的成分较简单,溶液稳定,电流效率较高,分散能力和覆盖能力好,镀层结晶细致,并能获得较厚的镀层,
产品描述
成都电镀工艺|成都电镀加工|成都电镀铜
焦磷酸盐镀铜工艺编辑
焦磷酸盐镀铜液的成分较简单,溶液稳定,电流效率较高,分散能力和覆盖能力好,镀层结晶细致,并能获得较厚的镀层,可采用的工艺范围较宽,无毒,不需抽风,加入光亮剂后可获得半光亮的镀层。成都电镀工艺
焦磷酸盐镀铜后镀层有毛刺,怎么解决?
可能原因及处理方法:
1)光泽剂使用不当,造成光泽剂失调, 镀铜光泽剂主要由载体、光亮剂、整平剂和润湿剂四部分组成,各部分的作用不同,须配合使用,才能起到协同作用,镀层达到光亮、平整、细致的作用。若使用不当或选择不合理,将导致晶体不规则成长,而形成毛刺
处理方法:合理选择、使用光泽剂
2)阴极表面黏附着导电的微粒
a.*化物含量过多。当镀液中*离子含量过多时,与Cu形成*化亚铜沉淀,沉积在阴极表面上形成毛刺
b.镀液中铁离子含量过高,形成硫-酸铁沉淀,在阴极表面上是镀层产生毛刺
c.镀液中含有锑和砷与铜共沉积产生毛刺
处理方法:
a.连续循环过滤镀液,并保证过滤量(每小时2 ~ 5倍槽体积);
b.定期分析并及时调整镀液成分,使溶液具有良好的导电性能;成都电镀加工
c.采用小电流电解(0.1 ~ 0.3A/dm),除去锑和砷杂质。成都电镀铜
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