成都电镀铜方法

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1，高酸低铜，硫-酸180g/L~220g/L,硫-酸铜50~80g/L; 优点是分散能力（TP）够强，厚度均一性好；缺点是整平性差，光泽度弱。哈氏片测试2A，右边高区过来1~2cm容易烧焦。但是走位能力强，一般应用于线路板的通孔电镀。Dk一般控制在2~4ASD没有问题。 2，高铜低酸，硫-酸铜180g/L~220g/L,硫-酸50~80g/L;优点是微观整平能力强，光泽度强；厚度均一性略差；哈氏片测试2A，整片镜面光亮。一般应用与五金电镀、塑料电镀、等。Dk一般控制在2~4ASD没有问题.